电子清洗剂 硅油清洗剂 清洗离型膜上残留的硅油
近年来，电子组装工艺领域发生了重大的变化，由于元器件密度增加、大型元器件和细小离地间隙部件的广泛应用以及残留的油污越来越难清洗，使得油污清洗愈加困难。虽然新型碱性水基清洗剂可有效去除各类残留物，但为了满足洁净度要求，往往需要增加清洗温度、延长清洗时间、提高应用浓度或者施加更强的机械能等；而更大的挑战，则来自材料兼容性的需求。
如：电路板需要跟离型膜结合在一起，目前很多中小企业都是使用有硅离型膜，无硅的价格昂贵所以到现在还不怎么广泛使用，离型膜上的硅油移转到电路板必须要将表面那层硅油清洗掉，才能进行下一道，然而硅油却并不是那么好清洗，使用一般的清洗剂效果都不是很好。
推荐使用硅油清洗剂，是一款中性环保的清洗剂，具有高效清洗是由一种优质阴离子和非离子表面活化剂精确合成的水多元醇基混合物而产生一种接近中性的浓缩物。
硅油清洗剂常用在衣织物、塑胶件、FPC电路板、陶瓷电阻、铝及柔软金属表面、医疗仪器的铝质盘架、实验室中磷酸盐感的器皿对象、敏感的航空科学材料、制药程序的仪器、医疗仪器及电子原件等相关产品的清洗。
操作工艺
1、稀释比例：清洁剂：水=1:5-20，清洗污染程度严重的需增加溶液浓度。
2、清洗流程：清洁剂：水=1:5-20开稀(加温45-65℃超声波清洗)→ 用清水漂洗至干净→ 烘干晾干。
3、清洗时间：清洗时间为5-10分钟，视脏污程度可延长清洗时间。
4、清洗温度：建议常温60- 80℃以上
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