湿法设备又名半导体湿制成设备，Wet Station，半导体清洗设备。是应用于半导体清洗方面的设备。
WS-1000湿法设备产于美国，是原装的半导体湿制成设备。
半导体湿制成设备厂家介绍：
美国Laurell,Inc总部位于美国宾夕法尼亚，成立于1985年，是一家专业提供化工半导体材料清洁涂敷处理等特殊工艺的公司。公司拥有WS-1000-CP5/ WS-1000-CP7-D等各类半导体清洗设备，目前客户已遍布全球。主要半导体湿制成设备有以WS-1000湿法设备和WS-1000m湿法设备为代表的多种半导体清洗设备。
WS-1000湿法设备有标准型和更优的湿法设备，标准型湿法设备使用于一般要求，更好的湿法设备具有优良性能，满足客户对半导体清洗设备的更高要求。半导体清洗设备有不同型号，请根据具体需要选择半导体清洗设备。推荐的半导体清洗设备：WS-1000m湿法设备，
WS-1000湿法设备的一般特性：
◆全白色聚丙烯构造湿法设备
◆可内置任何Laurell公司的旋涂机
◆排放简便的入氮口和DI喷头
◆如果需要更小尺寸有微型的供选择
WS-1000湿法设备一般信息：
Laurell公司的WS-1000系列旋转处理湿法设备可以被配置成测试模块构造，安装简便，易于拆卸，更便于操作者控制。典型的WS-1000处理过程包括（但不限于）：
◆涂敷
◆蚀刻
◆开发-水/溶剂
◆清洗-水/溶剂
◆确认，硫酸/双氧水（原样混合）
◆确认，HBr
◆温控开发
◆冲洗/烘干
WS-1000湿法设备特点：
全聚丙烯构造（见下文的自灭火功能）
可兼容安装任何Laurell 旋涂机
有排孔的湿隔层（易于拆除）
潮湿的空间
标准规格的排气空间
被热水器，水泵，容器等隔离的组件/容器
WS-1000湿法设备选项：
◆排气联锁控制处理器（一些型号是标准的）
◆加热和原材料搅拌
◆抵抗力冲洗
◆排水转向装置
◆真空负荷棒
◆晶片盒座
◆检漏
◆轻塔