半导体湿制成设备

半导体湿制成设备又名湿法设备，Wet Station，半导体清洗设备。是应用于半导体清洗方面的设备。



半导体湿制成设备（Wet Station）为美国原装湿法设备。主要代表半导体清洗设备：WS-1000湿法设备，WS-1000m湿法设备。Mycro湿法设备有标准型和更好的湿法设备，标准型Mycro湿法设备适用于一般要求，更好的Mycro湿法设备具有优良性能，满足客户对半导体清洗设备的更高要求。半导体清洗设备有不同型号，请根据具体需要选择半导体清洗设备。推荐的半导体清洗设备：WS-1000m湿法设备



WS-1000湿法设备特点：

◆全聚丙烯构造（见下文的自灭火功能）

◆可兼容安装任何Laurell 旋涂机

◆有排孔的湿隔层（易于拆除）

◆潮湿的空间

◆标准规格的排气空间

◆被热水器，水泵，容器等隔离的组件/容器



可以根据要求采用更高级的材料的湿法设备

更好的半导体清洗设备

WS-1000-CP5 符合SEMI S93标准应用在消防安全和洁净空间等领域。CP5符合UL94 V-O 火灾分类标准。它具有优良的平衡的物理性能，耐化学药品性和耐火性。

最佳的

WS-1000-CP7-D的材料阻燃特性符合最严格的FMRC 4910测试标准，满足多方面条件下的难燃性，自熄特点和彻底燃烧。这种先进的材料也达到或超过产生低烟和最小毒副产品的检测标准。



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