设备性能
SDF(SSF)系列激光刻膜机采用半导体泵浦激光器(或全固态激光器)，光点固定方向不动，工作台带动电池板与光点相对运动完成刻膜，刻膜专用X-Y工作平台，伺服驱动、滚珠丝杠与导轨传动，通过界面友好的专用控制软件，方便刻膜路径的编辑和修改，利用分光系统，同时完成两路激光同步输出。
应用领域
激光刻膜机系列广泛应用于：
太阳能行业薄膜电池TCO膜、a-Si膜、Al膜的刻膜或划线。
主要技术参数
规格型号 SDF50B SDF10D SSF10B SSF5D
激光波长 1064nm 532nm 1064nm 532nm
激光功率 52W 10W 10W 5W
激光重复频率 200Hz~50kHz 1kHz~100kHz
刻膜线宽 100μm 80μm
刻膜速度 200mm/s 400mm/s
刻膜精度 ±10μm ±10μm
工作台幅面 49＇×25＇(1250×640mm) 49＇×25＇(1250×640mm)
冷却方式 外挂式(一体化)循环水冷 水冷