硅片显影台

硅片显影台

用于晶片的显影工艺，

控制模式: 手动控制模式 自动控制模式，

清洗能力：2-4英寸晶片。

需甲方提供花篮。

设备形式: 室内放置型。

洁净度：千级洁净室 。

工艺说明:手动方式实现放片（工件），取片(工件)，槽体间传送片。

工艺参数（温度，时间，DI水清洗流量，时间）手动设定。

设备台面布局按用户要求配制。

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