名称：TEM用氮化硅薄膜窗2
编号：TEM
产品详情：
TEM用氮化硅薄膜窗
氮化硅薄膜窗特点
• 低应力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撑膜：50nm厚的薄膜具有最大的视野范围；8nm和15nm厚的无孔氮化硅薄膜适用于TEM超高分辨率的应用
• 氮化硅支撑膜：低应力的LPCVD非化学计量比氮化硅薄膜，良好的平整度、绝缘性和疏水性
• 良好的化学稳定性：图像分辨率和机械强度达到理想的平衡；
• 均匀性：减少了不同区域的不均匀性；
• TEM断面成像应用的特殊窗口：适用于倾斜断层成像的0.5x1.5mm大窗口，倾斜度最大可达75°
• 多窗口系列：2窗口，0.1x1.5mm；3x3系列，0.1x0.1mm
• 可应用于多种显微技术：良好的机械稳定性使得同一种薄膜可应用于TEM, SEM, EDX, XPS and AFM 。
• 薄膜和基底耐酸，不会被溶解：可以在酸性条件或常规条件下研究、制备样本
• 可应用于高温试验环境： >1000° C
• 可提供更对精确的分析，如样品中的碳含量，减少污染：可用于无碳环境中的TEM成像和分析
• 容易清洗：机械稳定性和化学稳定性使得薄膜很容易采用辉光放电或等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量；
• 良好的平整度：良好的纳米沉积基底和薄膜，无背景结构适合于SEM成像
• 超净加工，防止支撑膜上残留微粒：100级的超净间内包装
• 框架厚度：200 and 50µm ：200µm是标准的TEM支撑架；50µm是特殊的TEM支撑架
• 标准框架直径为3mm
• 同一批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性
氮化硅薄膜窗规格
单窗口系列
窗口类型 薄膜厚度 窗口尺寸 框架尺寸 框架厚度 报价/USD
20nm 500x500µm Φ3mm 100µm ￥120.00
20/50nm 500x500µm Φ3mm 200µm ￥120.00/￥90.00
50nm 1000x1000µm Φ3mm 200µm ￥90.00
50nm 100x100µm Φ3mm 200µm ￥90.00
15nm 0.25x0.25mm Φ3mm 200µm ￥245.00
50nm 0.25x0.25mm 0.5x0.5mm
0.75x0.75mm
1.0x1.0mm Φ3mm 200µm ￥145.00
￥165.00
￥168.00
￥168.00
200nm 0.25x0.25mm 0.5x0.5mm
0.75x0.75mm
1.0x1.0mm Φ3mm 200µm ￥115.00
￥125.00
￥125.00
￥130.00
15/50/200nm 0.25x0.25mm Φ3mm 50µm ￥285.00
50nm
/200nm 0.5x1.5mm Φ3mm 50µm ￥168.00