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可见,多弧镀膜与磁控溅射法镀膜各有优劣,为了尽可能 地发挥它们各自的优越性,实现互补,将多弧技术与磁控技术合而为一的涂层机应运而生。在工艺上出现了多弧镀打底,然后利用磁控溅射法增厚涂层,后再利用多弧镀达到终稳定的表面涂层颜色的新方法。

大约在八十年代中后期,出现了热阴极电子蒸发离子镀、热阴极弧磁控等离子镀膜机,应用效果很好,使TiN 涂层刀具很快得到普及性应用。




电子束蒸发镀膜

利用高速电子束加热使材料汽化蒸发,亳州镀钛加工服务,在基片表面凝结成膜的技术。电子束热源的能量密度可达104-109w/cm2,表面镀钛加工服务,可达到3000℃以上,可蒸发高熔点的金属或介电材料如钨、钼、锗、SiO2、AL2O3等。

电子束加热的蒸镀源有直型电子和e型电子两种(也有环行),真空镀钛加工服务,电子束自源发出,用磁场线圈使电子束聚焦和偏转,对膜料进行轰击和加热。





PVD (Physical Vapor Deition) 即物理气相沉积,分为:真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。我们通常所说的PVD镀膜 ,指的就是真空离子镀膜;通常说的NCVM镀膜,就是指真空蒸发镀膜和真空溅射镀。真空蒸镀基本原理:在真空条件下,使金属、金属合金等蒸发,然后沉积在基体表面上,蒸发的方法常用电阻加热,电子束轰击镀料,使蒸发成气相,然后沉积在基体表面,历,真空蒸镀是PVD法中使用早的技术。


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