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真空电镀：Vacuum metalizing，即是物理气相沉积（PVD），即在真空下将原子打到靶材表面上达到镀膜的目的。早运用于光学镜片，如航海望远镜镜片，后来随着技术的改进，Pvd真空电镀多少钱，延伸到了唱片、磁盘、光盘、手机外壳、机械刀具等材料上的装饰镀膜、材料表面改性等。

工艺特点

工艺成本

模具费用（无）

单件费用（中）

批量生产（中）

典型应用

反射涂层；

消费电子产品和隔热板的表面处理；

产量范围单件到大批量皆可

质量优势适合高质量，pvd真空电镀厂家，高亮和产品表面保护层

生产效率速度慢，具体取决于设备内靶材存放量，通常为6小时/周期（包括喷漆工序）

电镀工艺的分类与流程说明

真空ip电镀流程说明。

(1)浸酸。

①作用与目的:除去板面氧化物，活化板面，一般浓度在5%～10%左右，主要是防止水分带入造成槽液硫酸含量不稳定。

②使用C.P级硫酸，酸浸时间不宜太长，防止板面氧化;在使用一段时间后，酸液出现浑浊或铜含量太高时应及时更换，桥头pvd真空电镀，防止污染电镀铜缸和板件表面。

真空镀钛技术的发展趋势详解

镀钛处理工艺是使用多种材料的涂层技术，其加工温度需保持在150摄氏度以上，但不能超过500摄氏度。镀钛不仅能使工具丰富多彩，也是工具达到一定硬度的效果，采用PVD技术，使工具具有优异的性能。

镀钛是一种通用涂层加工工艺，很多人对于镀钛的主要特点不是很了解，那么，镀钛的主要特点是什么呢

1、镀钛指的是在温度较高的钛金炉内，pvd真空电镀公司，将钛、锆等金属除去空气，同时凭借惰性气体的辉光放电，让所要涂层加工的金属或合金蒸气离子化，此时的离子经电场加速，会不断的堆积在负电荷的不锈钢板上，于是便有了颜色十分丰富的金属膜

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