离子源清洗 NIE-3500（A）全自动离子束清洗系统

NIE-3500（A）全自动离子束清洗系统产品概述：该系统为全自动上下载片，并且通过计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优S。

NIE-3500（A）全自动离子束清洗系统产品特点：

低成本

带预真空锁，自动上下载片

离子束：高达2KV/10mA

离子电流密度100-360uA/cm2

离子束直径：4",5",6"

兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)

J限真空5x10-7Torr

260l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵

14"不锈钢或铝质腔体

水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)

自动上下载片（NIE-3500）

基于LabView软件的PC计算机全自动控制

占地面积30"x30"

产品应用：

表面处理

离子铣

表面清洗

带活性气体的离子束刻蚀：  光栅刻蚀，以及SiO2，Si和金属的深槽刻蚀