如果不正确掌握会对线胶片成像质量带来很大影响。为解决这一问题我们采用增加曝光量的方法来进行补偿，以使线胶片的成像质量保持在相对恒定水平。曝光显影是蚀刻工艺中非常重要的部分，手机壳LOGO曝光显影工艺，它是图案准确度的决定性因素，因此曝光显影管控非常重要，之前鑫海森有编辑过“曝光显影在蚀刻加工中的作用”； 以上结束后，进行检测，合格品就可以进入蚀刻加工了。蚀刻加工的产品大都为精密零件，因此每一步的工艺设置与检测都需要严格控制，才能保证蚀刻完成后的加工质量。
自显机显影套药的性能在使用中，虽经补充仍有衰减。我们通过对自显机显影液性能的系统观测，并分期进行不同且条件补偿，根据补偿后特性曲线试叼于析和选择，提出了较理想的条件补偿值。此法可对不同条件时，自显机套药性能衰减的条件补偿提出理论依据，手机壳LOGO曝光显影定做，使线照片的影像质盈保持恒定。 自显机套药的使用时间又受胶片冲洗量的制约，使用时间越长，胶片的灰雾度越大，反差越小，手机壳LOGO曝光显影，药液氧化和衰减越明显。
一般来说，显影过程中被曝光和未曝光部分的光刻胶都会与光刻胶发生反应，因此，手机壳LOGO曝光显影公司，如图所示，并导致后期去胶困难。一般使用热板或烘箱来控制温度变化。光刻工艺中的坚膜工序。检验的目的是区分那些有很低可能性通过终掩膜检验的晶圆；提供工艺性能和工艺控制数据；及分拣出需要重做的晶圆。在显影检验工艺，工程师有个判断工艺的性能机会。显影检验步骤的第二个重要性与在检验时作的拒收有关。
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