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层析介质的清洗介绍

在生物的生产过程中，层析技术是关键的步骤之一。生物通过培养，收集，杂质捕获仪价格，经过层析介质的纯化，终得到符合要求的生物产品。

在生物制药的分离纯化过程中，培养的物料通过层析介质分离纯化，得到符合要求的目标产品。同时，物料中的杂质也污染了层析介质。这些污染物包括：宿主的蛋白（HCP）、核酸、脂类，培养过程中的代谢产物、内、杂菌，产品聚体，降解片段以及所用试剂中的杂质等。

这些污染物在下一次的分离纯化中将污染目标产品。所以必须去除或将其降低到安全水平。这就是我们所提到的层析介质的清洗 (CIP) 过程。

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种适用于工矿业的金属探测器人机界面控制系统。该系统利用串行外围设备接口采用单片机控制，对整个系统的硬件和软件分别进行设计。该系统不仅能够检测金属、提高抗干扰能力不误报，杂质捕获仪厂家，而且在很大程度上还能够降低设计的复杂程度，减少外围器件的使用数量。金属探测器用来探测在输送机皮带上运送的散状物料中出现的废弃金属。所探测的废弃金属可通过机械方式手动或自动从过程流中剔除，金属探测器装置由支架和控制器两部分构成，支架用来安装接收线圈和发射线圈;控制器为整个装置的部分。

电子气体中的金属杂质

电子气体中的金属杂质主要来源于：1) 生产环境和制造过程中引入的微量金属杂质；2) 气体运输和储存过程中机械带入的金属杂质；3) 使用过程中外界环境引入的金属污染。这些金属杂质在气体中主要以0.1~20 μm悬浮颗粒或小于0.1 μm的气溶胶形式存在。只有将气体中的颗粒通过分离进行排除，才能减少或消除金属杂质。然而，杂质捕获仪哪家好，目前一般的过滤器的孔径小为0.2 μm，杂质捕获仪，无法完全消除金属杂质。因此，建立气体中痕量金属杂质的检测方法，对高纯气体的生产、储存和运输等均具有指导意义

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