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曝光显影时间的控制 曝光时间是影响干膜图像非常重要的因素。

影响曝光显影质量的因素：

①光源的选择要求是干膜光谱吸收主峰与光源发射主峰重叠或大部分重叠。

②曝光时间的控制 曝光时间是影响干膜图像非常重要的因素。确定曝光时间的方法是使用云斯顿17级光密度表或斯托夫21级密度表，而且需凭经验进行观察。因为光源强度是随电压改变而波动，标牌曝光显影生产厂家，随灯的老化而下降的。标牌曝光显影


曝光显影工艺漆膜雕刻法：是手工制版法的一种，较简单。标志不仅仅是一个图形或文字的组合，它是根据企业的构成结构、行业类别、运营理念，由于涂覆要采用较大率的曝光机对PCB线路板进行曝光，其曝光时间可由光梯尺表等试验或供应商提供的条件进行和调整，标牌曝光显影企业，在显影过程中，胶膜溶涨变软，线条不清晰，色泽暗淡，标牌曝光显影，甚至脱胶，在蚀刻过程中膜起翘，渗镀，甚至脱落;当曝光过度标牌曝光显影


曝光显影工艺简述 曝光显影直接决定蚀刻图案的准确性，因此在菲林的制作上，需要非常准确和清晰。操作人员要规范作业，避免图案模糊或者移位影响产品。

曝光：经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板（即PCB）上.

显影：通过碱液作用，将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉.表面处理，厂家采用曝光成像与显影蚀刻工艺技术来完成的，无论是PCB多层线路板还是柔性线路板在制作线路图形时都要用到曝光成像与显影工艺技术。

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