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曝光显影设备企业

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利用曝光显影工艺正好可以解决遮蔽油墨不能通过传统印刷解决的问题，具有精度高，量产性好，良率高等特点，采用曝光显影技术，遮蔽油墨可控良率可达90%以上。

显影的主要过程如下：

对准曝光→曝光后烘→显影→坚膜→显影检测。

对准曝光（Alignment and Exure）

对准曝光阶段是光刻工艺的重要阶段，塘厦保温杯曝光显影，使用的掩膜曝光机，即光刻机，集中了光刻工艺中重要的工艺技术。对准曝光过程通常在黄光实验室中进行。

曝光后应尽快进行显影步骤中的烘干处理，从而有效降低驻波效应的影响，这是由于曝光过程中，


工艺工程师的目标是保持尽可能低的重新工艺处理率，处理率应小于10%，而5%是一个受欢迎的水平。在掩膜次序中有较宽的特征图形尺寸、较平的表面和较低的密度，所有这些会使掩膜良品率更高。曝光后应尽快进行显影步骤中的烘干处理，从而有效降低驻波效应的影响，保温杯曝光显影定制，这是由于曝光过程中，入射光和反射光会产生相互干涉， 保温杯曝光显影保温杯曝光显影保温杯曝光显影


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