真空镀膜厂 惠阳真空镀膜 泰坦金属制品有限公司

?PVD真空镀膜真空镀膜

PVD真空镀膜过程的均匀性

PVD真空镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的PVD真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。

薄膜均匀性的概念：

厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，惠阳真空镀膜，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，真空镀膜厂，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，真空镀膜厂家，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。

但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。

化学组分上的均匀性：

就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。

处理对真空电镀层的质量有何影响吗？

真空镀膜的黏附性比较差，容易脱落电镀的种类很多， 水电镀的膜厚比真空溅镀的厚，水电镀膜厚一般为15~20UM，真空电镀 的膜厚一般为0.5~2UM.水电镀的化学液不同会有不同的色彩。 真空电镀的靶材不同镀膜颜色不同，真空电镀的功率，真空镀膜工厂，真空等级不同会有颜色的变化。溅镀 溅镀是利用离子轰击靶材，击出靶材原子变成气相并析镀于基材上。溅镀具有广泛应用的特性，几乎任何材料均可析镀上。

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