真空pvd镀膜厂家 惠州真空pvd镀膜 泰坦金属制品

基体资料的外表状况对掩盖才能的影响比较复杂。

　　一般来说，同一镀液在光洁度高的基体外表上掩盖才能要比其在粗糙外表上的掩盖才能好。因为外表积大，其实在电流密度较低，不易到达金属的分出电位，而仅仅分出很多氢气。别的，真空pvd镀膜公司，若是基体外表镀前处置不良，存在没有除尽的油膜、各种成相膜层或污物等，惠州真空pvd镀膜，也将阻碍镀层的堆积而使掩盖才能下降。

pvd真空镀膜加工的优点：

1、金属外观，·颜色均匀一致，·颜色深韵、光亮，膜层颜色种类繁多，表面细腻光滑，富有金属光泽，真空pvd镀膜厂，。耐久的表面，在各种基本的的空气和直射阳光环境条件下保持良好外观。·，抗腐蚀。耐腐蚀，真空pvd镀膜厂家，化学性能稳定，·抗酸。在常规环境下，户内或者户外，都，不失去光泽并不留下痕迹。·正常的使用情况下不会破损。在强烈的阳光，咸的湿地和城市环境下，都不失去光泽，不氧化，不脱落。在烈日、潮湿等恶劣环境中不变色、不脱落，性能稳定。

真空镀膜的方法很多，计有：

(1)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。

(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，带正电的离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。

(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。

(4)离子镀：实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合，兼有两者的工艺特点。表6-9列出了各种镀膜方法的优缺点。

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