曝光显影的工艺流程 曝光显影是通过对未聚合光刻胶的化学分解来使图案显影，负光刻胶显影：或stoddart溶剂显影，n-丁基醋酸盐冲洗；喷射-对负胶而言是标准工艺，对温度敏感的正胶却不是很有效，隔热冷却（adiabatic cooling）；显影：干法光刻胶显影要求光刻胶化学物的曝光或未曝光的部分二者之一易于被氧等离子体去除，换弧度面曝光显影
蚀刻加工中曝光显影需要注意的事项 曝光显影是蚀刻工艺中非常重要的部分，它是图案准确度的决定性因素，因此曝光显影管控非常重要，弧度面曝光显影，首先是预处理，蚀刻材料要处理干净，丝印油墨时要保证油墨厚度适中，一般在0.12-0.14mm，弧度面曝光显影定做，接下来是烘烤油墨，要控制温度和烘烤速度，弧度面曝光显影厂商，第三步就是曝光中要注意菲林外观的准确，图案是否清晰吗，对外是否准确，然后进行曝光。弧度面曝光显影
显影包括正显影和反转显影。正显影中显影色粉所带电荷的极性，与感光鼓表面静电潜像的电荷极性是相反的，反转显影中感光鼓与色粉电荷极性是相同的。基本上固化了，但大多是不的。加上显影、清洗等吸收的水份，所以要通过加热来完成。但是热固化大多用传导热来进行的。因此，其固化是由表面向内部逐步进行或完成的，因而是呈梯度式的固化程度状态。弧度面曝光显影
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