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- 东莞市泰坦金属制品有限公司
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- 发布时间
- 2022-12-17 12:42:46
2、的附着力–可以折弯90度以上不发生裂化或者剥落(PVD镀膜持有很高附着力和耐久力)。其它的技术,包括电镀,喷涂,电泳都不能与其相比。
3、镀层薄,但具有高度耐磨损,耐刮擦,不易划伤。高硬度,低摩擦系数。不会改变基材本身的外观,比如镜面,拉砂纹,蚀刻纹,花纹,CD纹等不会覆盖。
4、可以蚀刻出任何能够想象出的设计图案。
5、pvd真空电镀加工层可镀材料广泛,与基体结合力强。
6、经济,可减少清洗和擦亮电镀黄铜或金色所必须的时间和成本。
7、真空离子镀膜技术——对人体和生态环境真正无害。可替代大部分传统化学电镀技术,玻璃真空镀膜加工厂,对环境无害,避免化学,可以使用在内装修或者室外,膜层具有生物相容性,可广泛应用于手表,玻璃真空镀膜加工,首饰,手机配件等与皮肤直接接触的产品表面,特别是钛合金涂层,还可应用于生物产品上
8、用途广泛,现在主要应用于航空航天,耐高温,高压,抗磨损零件,刀具模具,日用五金,3C电子配件,建筑装饰,电工电子,医学等。
3.晶格有序度的均匀性:
这决定了薄膜是单晶,多晶,非晶,是真空镀膜技术中的热点问题,具体见下。
主要分类有两个大种类:
蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜,具体则包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,溶胶凝胶法等等
一、对于蒸发镀膜:
一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,乐从玻璃真空镀膜,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。
基体外表状况对掩盖才能的影响
基体资料的外表状况是影响掩盖才能的主要要素之一。实习标明,金属在不一样基体资料上电堆积时,同一镀液的掩盖才能不一样也很大。如用铬酸溶液镀铬,金属铬在铜、镍、黄铜和钢上堆积时,镀液的掩盖才能顺次递减。这是因为当金属离子在不一样的基体资料上复原堆积时,玻璃真空镀膜公司,其过电位的数值有很大的不一样。过电位较小的分出电位较正,即便在电流密度较低的部位也能到达其分出电位的数值,因而其掩盖才能较好。