曝光后应尽快进行显影步骤中的烘干处理，从而有效降低驻波效应的影响，这是由于曝光过程中，入射光和反射光会产生相互干涉，其光强会沿着胶体水平方向形成波纹形状，即驻波。目前通常采用曝光后立刻烘干方式，即PEB，减少驻波效应带来的影响。使用的光刻机也根据不同的曝光原理，平远弧度面曝光显影，分为接触式曝光，弧度面曝光显影服务，接近式曝光和投影式曝光。弧度面曝光显影弧度面曝光显影
工艺工程师的目标是保持尽可能低的重新工艺处理率，弧度面曝光显影公司，处理率应小于10%，弧度面曝光显影厂，而5%是一个受欢迎的水平。在掩膜次序中有较宽的特征图形尺寸、较平的表面和较低的密度，所有这些会使掩膜良品率更高。曝光后应尽快进行显影步骤中的烘干处理，从而有效降低驻波效应的影响，这是由于曝光过程中，入射光和反射光会产生相互干涉， 弧度面曝光显影弧度面曝光显影弧度面曝光显影
曝光是指将感光板置于晒版机工作台上，放好底片，通过曝光 获得一种潜在或可见图像的过程。曝光是一切光化学成像方法的基本过程与主要特征。曝光的物理含意是指光线使感光层面(涂了感光化学物)产生潜影。曝光后的工序是化学显影，显影使潜影显现并固化。线路板曝光机：用紫外线(UV)的能量，使干膜或印墨中的光敏物质进行光化学反应，以达到选择性局部架桥硬化的效果，完成影像转移的目的称为曝光。
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