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PVD真空镀膜过程的均匀性

PVD真空镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的PVD真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。

薄膜均匀性的概念：

厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，真空镀膜公司，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，手机真空镀膜，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。

真空电镀将室内空气抽走，达到一定的真空度后，真空电镀将室内的钨丝通电加热。当达到一定的温度后，真空电镀钨丝上所放置的金属丝气化，然后随着室内的工件的转动均匀的沉积在工件表面，真空电镀形成金属膜。一般常见的真空电镀用金属有铝、镍、铜等等。真空电镀但由于熔点，工艺控制等方面的原因，镀铝成为流行的做法。

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