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- 发布时间
- 2022-12-28 11:50:31
LDI机
LDI曝光速度的瓶颈因素包括:数据的储存与传送、镭射能量、切换速度、多边型的制作速度、光阻的感光度、镭射头移动速度、电路板传送作业模式等。
以基本的影响因素而言,有三个独立的因子会影响曝光速率:
1、能量密度 2、数据调变的速度 3、机械机构速度
光阻必须要有一定量的能量送到表面才能产生适当的曝光,而高敏度的光阻需要的能量相对较低。因为总能量等于功率乘上时间,高敏度的感光膜在同样的功率下所需的曝光时间就比较短。而曝光系统的功能输出,主要来自于系统的光源设计,所以这是能量与时间的关系与解析度无关。
DI直接成像曝光机
1、技术优势:
所有MIVA 位图影像系统使用的曝光程序,使用率半导体光源系统和高解析度的光学模组,此系统将高清晰度的影像转移至感光基材,根据产品需求解析度可从3000DPI 到128000DPI,光学头在板材上方连续移动曝光,高解析度的线性电机和光学尺可实现的位置控制。
2、耗电低:
待机时只需消耗350W,曝光时消耗2.5KW,这其中一半的能量是由吸板真空泵所消耗,故机台本身十分节能。机台可使用单相电源。
线路板曝光机:用紫外线(UV)的能量,使干膜或印墨中的光敏物质进行光化学反应,3D玻璃盖板曝光机,以达到选择性局部架桥硬化的效果,3D摄影曝光机,完成影像转移的目的称为曝光。将棕片(重氮片)上的图曝光到涂了感光物或是贴了感光干膜的线路板硬板PCB或软板FPC上。
曝光机理:通过UV光照射,使干膜感光剂中的非聚合状态有机分子桥接成聚合体。
光源:散射光、准平行光、平行光、激光。
设备:手动对位曝光机,半自动对位曝光机,自动曝光机,3D曝光机厂家,LDI曝光机,3D曝光机,DI曝光机。
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