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- 2023-04-02 11:43:21
即硅片表面必须由低能转化为高能表面。从A=r(SG)- r(SL)>0式可以看出:完成上述转化的条件为或者使r(SG).上升,或者r(SL)下降。由于清洗液大多为无机碱、酸的水溶液,知这时r(SL).几乎不变。因此,的方法是改变r(SG), 使之增加。由于结构完整的纯净硅表面r(SG)是固定的,疏水处理,要改变其r(SG),只能改变其表面结构。实际上,硅片经过清洗液洗后,防水疏水处理,表面Si大部分以O键为终端结构,即表面非定形SiOx结构,利用其高r(SG)值达到硅表面吸附水分子的效果。亲水处理后,硅表面结构
疏水是满足将锅炉汽水系统中的水和蒸汽冷却产生的凝结水排出的要求,为保证严密性通常设置两道阀门,常见疏水处理,在锅炉运行时通常处于关闭状态。凝结水是饱和的高温软化水,其热能价值占蒸汽热能价值的25%左右, 而且也是洁净的蒸馏水,适合重新作为锅炉给水。
一种合格的锅炉水处理剂必须有效地起到阻垢和缓蚀两作用。阻垢主要是对锅炉本体的阻垢,而缓蚀的对象包括锅炉本体以及蒸汽所通过的管道,热交换器和凝结水管道。
利用氧等离子体表面处理,使PDMS与带有钝化层的硅片在室温常压下可以成功键合。在利用氧等离子体改性处理实现PDMS与其它基片键合的技术中,-般认为,在进行氧等离子体表面改性后,应立即将PDMS基片与盖片贴合,否则PDMS表面将很快恢复疏水性,从而导致键合失效,因此可操作工艺时间较短,一般为1 ~ 10min。而通常在需键合的PDMS基片和硅基片上都会带有相应的微细结构,键合前需用一定的时间进行结构图形的对准,因此,如何使PDMS活性表面的持续时间得以延长,成为保证键合质量的关键。