派瑞林镀膜 菱威纳米 推荐派瑞林镀膜加工材料

1、所用材料安全环保，派瑞林镀膜加工用途，不含氯、和臭氧层破坏。hgwp的ODP值为0，GWP值为0.25，不影响人体和环境。所形成的涂膜层具有更雹更易散热、易修补等优点，可以很好地替代三防涂层。

2、由于本产品可直接用于手机PCB板的防水处理，与结构防水相比，具有更高的防水安全性和可靠性。由于外观的变形或碰撞，容易引起结构防水失效，而PCB的保护则不会，因此可以使产品的安全系数更高。

考夫曼离子源是应用较早的离子源。属于栅格式离子源。首先由阴极在离子源内腔产生等离子体，让后由两层或三层阳极栅格将离子从等离子腔体中抽取出来。这种离子源产生的离子方向性强，离子能量带宽集中，可广泛应用于真空镀膜中。缺点是阴极（往往是钨丝）在反应气体中很快就烧掉了，另外就是离子流量有极限，派瑞林镀膜，对需要大离子流量的用户可能不适和。

霍尔离子源是阳极在一个强轴向磁场的协作下将工艺气体等离子化。这个轴向磁场的强不平衡性将气体离子分离并形成离子束。由于轴向磁场的作用太强，霍尔离子源离子束需要补充电子以中和离子流。常见的中和源就是钨丝（阴极）。

派瑞林（Parylene）可以增加铁氧体等磁性材料的介电性及耐高压性能，可以克服普通环氧树脂喷涂等其他涂层工艺处理后不耐磨，不耐酸碱等方面的严重缺陷。其工艺特点：派瑞林（Parylene）涂层物料经蒸发室汽化后进入裂解室后裂解为气体，气体进入沉积室，通过沉积室，即物体表面均匀包覆所述派瑞林层。派瑞林（Parylene）真空气相沉积工艺和磁体覆膜工艺，降低磁体表面的氧化能力，提高磁体的抗蚀性，相比电镀磁体工艺，该镀膜工艺使磁通损失率降低至现有覆膜工艺的50％，且降低了毛坯生产的成本。从而降低企业生产成本，提高产品性能。

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