利用斯涅尔定律，可以找到由不同折射率的平面平行表面组成的多层薄膜镀膜任何位置的光线角度。由于斯涅尔定律适用于每个界面，因此薄膜内光线的内角与薄膜顺序或薄膜在堆栈中的位置无关(2)n1sinθ1=n2sinθ2=n3sinθ3=n4sinθ4n1sin?θ1=n2sin?θ2=n3sin?θ3=n4sin?θ4出射光线将与入射光线平行，因为 n1 = n4。由于光学元件的曲率，曲面上的光学镀膜并不是真正的平面平行结构。不过，由于镀膜较薄，这种近似仍然有效。
光学镀膜的特点是:表面光滑，膜层之间的界面是几何划分的，膜层在界面上的折射率可以发生跳跃，但在膜层是连续的，可以是透明介质，也可以是光学镀膜。其精度往往达到纳米甚至微纳米级别，光学真空镀膜公司，因此，光学真空镀膜出售，其制备复杂性不言而喻，有时小的失误会导致完全损失，为镀膜制备带来极大的困难。薄膜沉积的传统方法一直是热蒸发，或采用电阻加热蒸发源或采用电子束蒸发源。薄膜特性主要决定于沉积原子的能量，
真空镀膜:真空镀膜主要是指需要在更高真空下进行的涂料，包括真空离子蒸发，磁控溅射，光学真空镀膜，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等多种涂料，光学真空镀膜厂商，所以，蒸发和溅射有两种主要类型.将被镀材料制成基材，将电镀材料用作靶材或药材.衬底处于与靶相同的真空中.光学薄膜的特点是:表面光滑，膜层之间的界面呈几何分割，膜层的折射率在界面上可以发生跃变，但在膜层内是连续的，可以是透明介质，也可以是光学薄膜
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