中频离子镀膜设备 镀膜设备 鼎益科技,鼎益真空

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2023-08-27 20:58:28
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硬质真空涂层设备

TIN(氮化钛)涂层

TiN是一种通用型PVD涂层,具有较高的是相当稳定的化合物,可以提高刀具/工具硬度并具有较高的氧化温度。该涂层用于高速钢切削刀具或成形工具可获得很不错的加工效果。

氮化钛涂层及其烧结体具有令人满意的金黄色,可作为代金装饰材料,具有很好的仿金效果、装饰价值,并具有防腐、延长工艺品的寿命。图层种类涂层颜色涂层厚度纳米硬度摩擦系数应用温度TiN金黄色1-5μm2300HV0.3(对钢材)600℃主要特点标准涂层,通用性很好,有较高的氧化温度,

在中低速及切削阻力较小的切削加工、冲压、注塑模具及零部件等方面有广泛应用。应用范围1.精密模具:镜面模具、注塑模具、冲压模具、拉伸成型模具、剪切冲头及各类模具部件,如滑块、顶针等

2.切削刀具:钻头、铣刀、丝锥、滚齿刀、刨齿刀、剃齿刀、拉刀、圆锯片、舍弃式刀片等刃具

3.量具:游标卡尺、卡规、量规、塞规、千分尺等

4.汽车工业:活塞环、柱塞等






















真空镀膜机设计应该注意细节

鼎益科技在设计环节就开始需要进行捡漏的一些真空镀膜注意事项:1、

根据设备的工艺要求,中频离子镀膜设备,确定真空镀膜机的总的大允许漏率,并依据这一总漏率确定各组成部件的大允许漏率。

2、

根据设备的大允许漏率等指标,在设计阶段就初步确定将要采用的检漏方法,并将其作为指导调试 验收的基本原则之一。

3、

根据设备或部件的大允许漏率指标,决定设备的密封、连接方式和总体加工精度,以及何种动密封形式能够满足要求。如,法兰采用金属密封或橡胶密封。

4、

容器结构强度设计时,考虑如果采用加压法检漏被检件所应具有的耐压能力和结构强度。

5、

选择零部件结构材料时,小型真空镀膜设备,考虑是否使用了可能被工作介质和示漏气体腐蚀而导致损坏的材料。

6、

结构设计时,在容器或系统上要留有必要的检漏仪器备用接口,以便在设备组装、调试过程中检漏使用。尤其是大型、复杂的管路系统,通常需要采用分段检漏方法,因此在管路上要设置分段隔离的阀门,并在每一隔离段上预留检漏仪器接口。

7、

零件结构设计时,尽量避免采用可能干扰检漏工作的设计方案。例如在真空室內螺钉孔不能采用盲孔形式,因为安装螺钉后螺孔内部剩余空间的气体只能通过螺纹间隙逸出,镀膜设备,形成虚漏。从而延长系统抽气时间,PVD真空镀膜设备,干扰检漏正常进行。如图真空检漏中不应出现的结构。

8、

与此类似,结构设计中不允许存在连续双面焊缝和多层密封圈结构,因为这会在中间形成“寄生积”内的气体会形成虚漏;而当内、外双侧焊缝或密封圈同时泄漏时,“寄生容积”使示漏气体穿越双层焊缝的响应时间过长,无法正常检漏。

9、

焊接结构设计时,尽量减少总装后无法检漏的焊缝。 真空镀膜机捡漏工作,是需要在设计、制造、调试、使用各个有关环节中随时进行,但是为了减少后期捡漏工作加重,必须要在设计环节,就应该重视捡漏工作,确保真空镀膜机后期环节捡漏环节的减少。



















磁控溅射镀膜机

中频磁控镀膜机

屏蔽膜电镀设备

中频溅射镀膜机

磁控真空镀膜机

真空蒸镀:

其原理是在真空条件下,用蒸发器加热膜料,使其气化或升华,蒸发粒子流直接射向基片,并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。蒸发同时也分电子束蒸发和电阻蒸发、感应蒸发等。

溅射镀膜:

是真空条件下,在阴极接上高压电,激发辉光放电,带正电的离子撞击阴极靶材,使其射出膜料粒子,并沉积到基片上形成膜层。

离子镀膜:

离子镀膜通常指在镀膜过程中会产生大量离子的镀膜方法。在膜的形成过程中,基片始终受到高能粒子的轰击,膜层强度和结合力非常强。离子镀膜镀制高精密的膜层时,可以加过滤掉大颗粒的离子,这样能达到高结构,高致密性的膜层。

































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