顶旭微控技术 江苏SU8模具加工设备

桌面光刻机的作用主要是将芯片制造过程中的微小部分通过照相方法制作出来。使用这种方法，可以在方寸大小的面积内集成多达数千个微型元件的功能性电路，广泛应用于、等高科技领域以及消费电子产品中。这种设备对于普通消费者而言并不实用，但可以为那些需要精密加工和电子设计的工程师提供一定的帮助和学习价值。总的来说，它在提高技术知识和技能方面具有一定的教育意义。

三、前烘

1）将涂布好SU8光刻胶的硅片放置在热板上，进行预热烘烤，去除光刻胶中的挥发性有ji溶剂，时间和温度根据光刻胶厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um ，设置温度65℃，烘烤15min，然后温度95度，烘烤15分钟）

四、曝光

1）将预热后的硅片放置在桌面光刻机托盘上。

2）使用相应的掩模（掩膜）放置在硅片上进行曝光，曝光时间和强度根据SU-8光刻胶的类型和厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um，设置曝光能量25mw/cm2，时间12s）

五、后烘

将曝光后的硅片放置在热板上，进行后曝光烘烤，以确保光刻胶的交联反应完成。（举例说明：目标胶厚度50um，设置温度65℃，烘烤7min，然后温度95℃，烘烤3min）

六、显影

将硅片放入显影剂中，使未曝光部分的光刻胶溶解，形成模具的图案。（显影时间根据光刻胶厚度和显影剂浓度进行调整，此处显影时间20min）

七、清洗

将显影后的硅片用异bing醇溶剂进行清洗，SU8模具加工设备，去除多余的光刻胶。

八、检查

使用显微镜检查制备的SU-8模具，测试观察制备的微结构尺寸，确认图案的清晰度和质量。

技术参数

曝光光源：紫外LED

光源波长：365nm;

曝光面积：4英寸、6英寸可选；

曝光方式：单面接触式定时曝光；

曝光分辨率：2um；

曝光强度：20~200mW/cm2可调；

曝光不均匀性：≤5%；

光源平行性：≤2°；

光源寿命：≥20000h；

电源输入：AC220V±10V，50HZ

功率：250W

重量：25kg

外形尺寸：382（长）*371（宽）*435（高）

工作环境：温度0℃-40 ℃，相对湿度＜80 %

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