科研实验-蓝宝石基底石墨烯薄膜（WJSAS/F)

VD生长石墨烯，各种衬底都可以较好地承载，无论是SiO2/Si/PET/石英/玻璃，还是硅片蓝宝石基底，都能够生长出大面积连续的单层或多层石墨烯薄膜。CVD，即在一定条件高温下的气相反应，可以产生金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解，氧还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料。这一技术最初只是作为涂层的手段而开发，但如今已经广泛应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜制备等领域，成为了一个颇具特色的技术领域。

CVD方式下制备石墨烯主要包括两个路径，“直接生长”和“迂回生长”。在“直接生长”路径中，催化裂解出来的碳原子直接在催化剂表面成核、进而生长成石墨烯薄膜。而在“迂回生长”路径中，催化裂解的表面碳原子渗透进入体相溶解后，再在表面析出，成核生长形成石墨烯薄膜。两个平行生长路径的贡献，取决于金属催化剂的溶碳能力、金属碳化物的生成及其在生长温度下的化学稳定性。

蓝宝石基底石墨烯（WJSAS/F)：蓝宝石基底石墨烯薄膜是将石墨烯转移至蓝宝石基底上。可以提供单层石墨烯薄膜、双层石墨烯薄膜和少层石墨烯薄膜，薄膜尺寸大小均可定制。