20年 光刻机 ASML CYMER光电模块组件维修114122

1：436nm g-line

可以满足米制程芯片的生产，对应设备有接触式和接近式光刻机。

2：365nm i-line

同样可以满足0.8~0.35微米制程芯片的生产。设备于上相同。

早期的光刻机采用接触式光刻，即掩模贴在硅片上进行光刻，容易产生污染，且掩模寿命较短。此后的接近式光刻机对接触式光刻机进行了改良， 通过气垫在掩模和硅片间产生细小空隙，掩模与硅片不再直接接触，但受气垫影响，成像的精度不高。