荷兰ISTEQ公司TEUS系列EUV光源

荷兰ISTEQ公司TEUS系列EUV光源

产品介绍：

ISTEQ公司开发了一种基于激光产生等离子体（LPP）的EUV光源。该光源具有极高的亮度和极高的稳定性。它采用可自刷新的材料，无需中断和更换燃料盒，因此持续运行时间极长。

ISTEQ公司为LPP光源开发的燃料是针对特定应用的光谱范围而设计的。然而，对于掩模检查的应用，公司开发了一种高频锡旋转靶，已在全球范围内获得专利。

产品特点：

·高亮度以及出色的稳定性

·最少的碎片

·极高的正常运行时间

·高占空比和交钥匙操作

·用户友好的自动化协议，确保系统平稳运行，没有中断的风险。

产品应用：

·掩模和表面检查：

·图案掩模检测 (PMI)

·区域掩模检测 (AIMS)

·掩模空白检测 (MBI)

·EUV 扫描仪检

·材料科学

·晶圆检查

TEUS 系列激光等离子体光源

型号参数：

型号	TEUS S-100	TEUS S-200	TEUS S-400
激光平均功率100	400
脉冲重频25或50或100或EUV功率立体角0.05
等离子体尺寸m	60或≤ 4≤ (13.5 nm±2 % @2π·sr or 1.6% @2π·sr
碎片处理系统后角内光通量11 或22 或44 或W/mm2·sr	80或≥≥ 280	310或≥ 3% rms
在10%	不少于4个月	不少于24/7运行状态下，使用特殊膜过滤器情况下，收集器寿命下降18个月	不少于4个月
维护时间间隔	- 1 天	- 2天	- 1天
***	3个月	5 kW	10.5 kW
尺寸（长×宽×高）1500×1200
重量，包括激光组件770
房间洁净度等级	10升15升25升<span color:#212529;"="" color: rgb(33, 37, 41);font-size: 14px;line-height: 1">分钟