2024年EUV 掩模坯料行业产业链发展分析报告

针对EUV 掩模坯料市场容量数据统计显示，2024年全球EUV 掩模坯料市场规模达到43.19亿元（人民币），中国EUV 掩模坯料市场规模达到13.34亿元。依据市场历史趋势并结合市场发展趋势，预测到2030年全球EUV 掩模坯料市场规模将达到95.11亿元，在预测期间市场规模将以14.06%的年复合增长率变化。

竞争方面，中国EUV 掩模坯料市场核心企业主要包括HOYA。报告依次分析了这些核心企业产品特点、产品规格、价格、销量、销售收入及市占率，并对其市场竞争优劣势进行评估。 

从产品类别来看，EUV 掩模坯料市场包括石英掩模, 苏打面膜。从下游应用方面来看，中国EUV 掩模坯料市场下游可划分为7nm 和 5nm 半导体工艺, 低于 5 纳米的半导体工艺等。报告依次分析了各产品类型（销量、增长率及价格趋势）与不同应用市场（EUV 掩模坯料销量、需求现状及趋势）。

报告发布机构：湖南睿略信息咨询有限公司

EUV 掩模空白被定义为具有覆盖层但没有吸收掩模图案的多层结构。用于 EUV 光刻的掩模是反射式的，由多层结构组成，该多层结构由钼和硅双层膜、覆盖层和图案化吸收层组成，形成在由低热膨胀材料制成的 6 英寸玻璃基板上。 EUV 掩模坯料由基板上的 40 到 50 或更多交替的硅和钼层组成。掩模坯是在低热膨胀玻璃基板的抛光表面上沉积多种成分的光学膜的光掩模基板基板。它是EUV光刻技术的核心技术方面。

EUV 掩模坯料行业调研报告以时间为线索，分析了过去五年EUV 掩模坯料****趋势及当前发展现状，剖析了EUV 掩模坯料行业发展驱动与制约因素及市场竞争风险，最后预测了EUV 掩模坯料行业发展前景。该报告从细分领域依次介绍了EUV 掩模坯料产品种类与销量、各应用领域与市场占比数据、细分地区市场概况，同时分析了EUV 掩模坯料国内生产商排名及市场份额，以帮助目标客户全面了解EUV 掩模坯料行业。

首先，该报告从整体上阐述了EUV 掩模坯料行业的特征、发展环境（包括政策、经济、社会、技术）、年市场营收变化趋势等。其次，报告通过种类、应用领域以及主要地区三个维度将EUV 掩模坯料行业进行细分，深入分析各细分市场概况，此外还对主要企业发展概况、运营模式、成长能力以及未来发展潜力等进行了剖析，最后基于已有数据，对EUV 掩模坯料行业发展前景进行预测。

报告各章节主要内容如下：

第一章： EUV 掩模坯料行业简介、驱动因素、行业SWOT分析、主要产品及上下游综述；

第二章：中国EUV 掩模坯料行业经济、技术、政策环境分析；

第三章：中国EUV 掩模坯料行业发展背景、技术研究进程、市场规模、竞争格局及进出口分析；

第四章：中国华北、华东、华南、华中地区EUV 掩模坯料行业发展现状、相关政策及发展优劣势分析；

第五章：中国EUV 掩模坯料行业细分产品市场规模、价格变动趋势与影响因素分析；

第六章：中国EUV 掩模坯料行业下游应用市场基本特征、技术水平与进入壁垒、市场规模分析；

第七章：中国EUV 掩模坯料行业主要企业概况、核心产品、经营业绩（EUV 掩模坯料销售量、销售收入、价格、毛利、毛利率统计）、竞争力及未来发展策略分析；

第八章：中国EUV 掩模坯料行业细分产品销售量、销售额、增长率及产品价格预测；

第九章：中国EUV 掩模坯料行业下游应用市场销售量、销售额及增长率预测分析；

第十章：中国重点地区EUV 掩模坯料市场潜力、发展机遇及面临问题与对策分析；

第十一章：中国EUV 掩模坯料行业发展机遇及发展壁垒分析；

第十二章：EUV 掩模坯料行业发展存在的问题及建议。

产品分类：

石英掩模

苏打面膜

应用领域：

7nm 和 5nm 半导体工艺

低于 5 纳米的半导体工艺

EUV 掩模坯料市场研究报告提供了研究期间内中国主要区域市场规模的统计与预测估计，报告将地区划分为：华北、华中、华南、华东及其他地区，同时列举了不同地区EUV 掩模坯料行业历史规模与份额变化及发展优劣势。此外报告根据EUV 掩模坯料行业的发展对各区域市场未来发展前景作出了预测。

EUV 掩模坯料市场竞争格局：

HOYA

报告揭示了EUV 掩模坯料市场发展规律，并对行业环境、市场规模、分布情况、竞争格局、驱动因素等方面进行深入细致的调查研究。该报告能为企业市场经营方向提供有效的导向作用，并帮助管理者更好的做出市场决策。

目录

第一章 中国EUV 掩模坯料行业总述

1.1 EUV 掩模坯料行业简介

1.1.1 EUV 掩模坯料行业定义及发展地位

1.1.2 EUV 掩模坯料行业发展历程及成就回顾

1.1.3 EUV 掩模坯料行业发展特点及意义

1.2 EUV 掩模坯料行业发展驱动因素

1.3 EUV 掩模坯料行业空间分布规律

1.4 EUV 掩模坯料行业SWOT分析

1.5 EUV 掩模坯料行业主要产品综述

1.6 EUV 掩模坯料行业产业链构成及上下游产业综述

第二章 中国EUV 掩模坯料行业发展环境分析

2.1 中国EUV 掩模坯料行业经济环境分析

2.1.1 中国GDP增长情况分析

2.1.2 工业经济运行情况

2.1.3 新兴产业发展态势

2.1.4 疫后经济发展展望

2.2 中国EUV 掩模坯料行业技术环境分析

2.2.1 技术研发动态

2.2.2 技术发展方向

2.2.3 科技人才发展状况

2.3 中国EUV 掩模坯料行业政策环境分析

2.3.1 行业主要政策及标准

2.3.2 技术研究利好政策解读

第三章 中国EUV 掩模坯料行业发展总况

3.1 中国EUV 掩模坯料行业发展背景

3.1.1 行业发展重要性

3.1.2 行业发展必然性

3.1.3 行业发展基础

3.2 中国EUV 掩模坯料行业技术研究进程

3.3 中国EUV 掩模坯料行业市场规模分析

3.4 中国EUV 掩模坯料行业在全球竞争格局中所处地位

3.5 中国EUV 掩模坯料行业主要厂商竞争情况

3.6 中国EUV 掩模坯料行业进出口情况分析

3.6.1 EUV 掩模坯料行业出口情况分析

3.6.2 EUV 掩模坯料行业进口情况分析

第四章 中国重点地区EUV 掩模坯料行业发展概况分析

4.1 华北地区EUV 掩模坯料行业发展概况

4.1.1 华北地区EUV 掩模坯料行业发展现状分析

4.1.2 华北地区EUV 掩模坯料行业相关政策分析解读

4.1.3 华北地区EUV 掩模坯料行业发展优劣势分析

4.2 华东地区EUV 掩模坯料行业发展概况

4.2.1 华东地区EUV 掩模坯料行业发展现状分析

4.2.2 华东地区EUV 掩模坯料行业相关政策分析解读

4.2.3 华东地区EUV 掩模坯料行业发展优劣势分析

4.3 华南地区EUV 掩模坯料行业发展概况

4.3.1 华南地区EUV 掩模坯料行业发展现状分析

4.3.2 华南地区EUV 掩模坯料行业相关政策分析解读

4.3.3 华南地区EUV 掩模坯料行业发展优劣势分析

4.4 华中地区EUV 掩模坯料行业发展概况

4.4.1 华中地区EUV 掩模坯料行业发展现状分析

4.4.2 华中地区EUV 掩模坯料行业相关政策分析解读

4.4.3 华中地区EUV 掩模坯料行业发展优劣势分析

第五章 中国EUV 掩模坯料行业细分产品市场分析

5.1 EUV 掩模坯料行业产品分类标准及具体种类

5.1.1 中国EUV 掩模坯料行业石英掩模市场规模分析

5.1.2 中国EUV 掩模坯料行业苏打面膜市场规模分析

5.2 中国EUV 掩模坯料行业产品价格变动趋势

5.3 中国EUV 掩模坯料行业产品价格波动因素分析

第六章 中国EUV 掩模坯料行业下游应用市场分析

6.1 下游应用市场基本特征

6.2 下游应用行业技术水平及进入壁垒分析

6.3 中国EUV 掩模坯料行业下游应用市场规模分析

6.3.1 2020-2025年中国EUV 掩模坯料在7nm 和 5nm 半导体工艺领域市场规模分析

6.3.2 2020-2025年中国EUV 掩模坯料在低于 5 纳米的半导体工艺领域市场规模分析

第七章 中国EUV 掩模坯料行业主要企业概况分析

7.1 HOYA

7.1.1 HOYA概况介绍

7.1.2 HOYA核心产品和技术介绍

7.1.3 HOYA经营业绩分析

7.1.4 HOYA竞争力分析

7.1.5 HOYA未来发展策略

第八章 中国EUV 掩模坯料行业细分产品市场预测

8.1 2025-2031年中国EUV 掩模坯料行业各产品销售量、销售额预测

8.1.1 2025-2031年中国EUV 掩模坯料行业石英掩模销售量、销售额及增长率预测

8.1.2 2025-2031年中国EUV 掩模坯料行业苏打面膜销售量、销售额及增长率预测

8.2 2025-2031年中国EUV 掩模坯料行业各产品销售量、销售额份额预测

8.3 2025-2031年中国EUV 掩模坯料行业产品价格预测

第九章 中国EUV 掩模坯料行业下游应用市场预测分析

9.1 2025-2031年中国EUV 掩模坯料在各应用领域销售量及市场份额预测

9.2 2025-2031年中国EUV 掩模坯料行业主要应用领域销售额及市场份额预测

9.3 2025-2031年中国EUV 掩模坯料在各应用领域销售量、销售额预测

9.3.1 2025-2031年中国EUV 掩模坯料在7nm 和 5nm 半导体工艺领域销售量、销售额及增长率预测

9.3.2 2025-2031年中国EUV 掩模坯料在低于 5 纳米的半导体工艺领域销售量、销售额及增长率预测

第十章 中国重点地区EUV 掩模坯料行业发展前景分析

10.1 华北地区EUV 掩模坯料行业发展前景分析

10.1.1 华北地区EUV 掩模坯料行业市场潜力分析

10.1.2 华北地区EUV 掩模坯料行业发展机遇分析

10.1.3 华北地区EUV 掩模坯料行业发展面临问题及对策分析

10.2 华东地区EUV 掩模坯料行业发展前景分析

10.2.1 华东地区EUV 掩模坯料行业市场潜力分析

10.2.2 华东地区EUV 掩模坯料行业发展机遇分析

10.2.3 华东地区EUV 掩模坯料行业发展面临问题及对策分析

10.3 华南地区EUV 掩模坯料行业发展前景分析

10.3.1 华南地区EUV 掩模坯料行业市场潜力分析

10.3.2 华南地区EUV 掩模坯料行业发展机遇分析

10.3.3 华南地区EUV 掩模坯料行业发展面临问题及对策分析

10.4 华中地区EUV 掩模坯料行业发展前景分析

10.4.1 华中地区EUV 掩模坯料行业市场潜力分析

10.4.2华中地区EUV 掩模坯料行业发展机遇分析

10.4.3 华中地区EUV 掩模坯料行业发展面临问题及对策分析

第十一章 中国EUV 掩模坯料行业发展前景及趋势

11.1 EUV 掩模坯料行业发展机遇分析

11.1.1 EUV 掩模坯料行业突破方向

11.1.2 EUV 掩模坯料行业产品创新发展

11.2 EUV 掩模坯料行业发展壁垒分析

11.2.1 EUV 掩模坯料行业政策壁垒

11.2.2 EUV 掩模坯料行业技术壁垒

11.2.3 EUV 掩模坯料行业竞争壁垒

第十二章 EUV 掩模坯料行业发展存在的问题及建议

12.1 EUV 掩模坯料行业发展问题

12.2 EUV 掩模坯料行业发展建议

12.3 EUV 掩模坯料行业创新发展对策

需求增加

虽然少数半导体公司正专注于使用 EUV 光刻技术制造半导体，但推广到其他公司可能需要一些时间。目前，**半导体**于智能手机、人工智能和数据存储，因为处于发展前沿的公司可以覆盖这些领域的需求。当 EUV 光刻技术用于制造其他用途的半导体时，随着其他半导体公司开始使用 EUV 光刻技术制造半导体，对 EUV 掩模空白的需求可能会增加。在这样的环境下，EUV Mask Blanks 制造商需要扩大利润并降低包括高精度产品在内的所有产品的制造成本，并通过将收益再投资于先进和高精度产品的研发来扩大市场份额。

来自下游半导体行业的驱动力

半导体市场的增长归因于全球消费电子设备消费量的增加。此外，人工智能（A）、物联网（LoT）和机器学习（ML）技术的出现为市场发展提供了新的机遇。这些技术有助于存储芯片在更短的时间内处理大量数据。此外，工业应用中对更快、更先进的存储芯片的需求不断增长，将推动市场在预测时间内的增长。家庭可支配收入水平的提高，加上人口的快速增长和城市化进程的加快，正在创造对常规和**消费电子设备的巨大需求。集成电路 (IC) 芯片存在于多种电子设备中，包括智能手机、洗衣机、电视和冰箱，以实现高效和适当的功能。包括三星、苹果和华为在内的几个领先的消费电子品牌正在大力投资推出新设备，以满足消费者对先进设备日益增长的需求，从而支持半导体行业的增长。半导体行业的强劲发展反过来又带动了 EUV Mask Blanks 行业的需求。

区域市场综述：

预计亚太地区将在 EUV 掩模基板市场中占据相当大的份额，并预计到 2028 年将成为最大的地区。

细分类型概览：

按类型划分，石英掩模细分市场在 2022 年占据最大市场份额。

石英掩模板以高纯度石英玻璃为基材，具有高透光率、高平整度、低膨胀系数等优点，通常用于高精度掩模板产品。

以钠玻璃为基材，与石英玻璃相比，热膨胀性较高，平整度和耐磨性相对较弱，成本相对较低，通常用于低精度掩膜产品。

EUV 掩模坯料行业前端企业：

HOYA是EUV掩模基板市场的主要参与者之一，占有69.86%的份额

 2023年。

豪雅

Hoya 于 1941 年在日本东京成立，是一家全球医疗技术公司，也是创新高科技和医疗产品的领先供应商。 Hoya 活跃于医疗保健和信息技术领域，提供眼镜、医用内窥镜、人工晶状体、光学镜片以及半导体设备、液晶面板和硬盘驱动器的关键部件。 HOYA 的先进技术支持各种数字产品的开发，包括个人电脑、液晶电视和智能手机。 HOYA 持续**技术创新，为富裕社会做出贡献。

AGC公司

AGC Inc. 生产和销售玻璃产品。公司生产建筑玻璃、汽车玻璃、应用玻璃材料等产品。 AGC还生产电子、化学品和其他产品。 AGC利用100多年技术创新历史中培育的世界**技术，在玻璃、电子、化学和陶瓷业务领域不断创造新价值。

下游应用概述：

按应用划分，市场最大的细分市场是 7 纳米和 5 纳米半导体工艺细分市场，到 2022 年，市场份额将达到 96.40%。

指3纳米工艺（龙头企业已开始量产）、2纳米生产工艺（实验室研发阶段）。它用于支持更先进的专用芯片硬件。该工艺属于EUV掩模版产品下游的高端前沿应用。

在半导体制造领域，国际器件和系统路线图将5nm工艺定义为7nm节点之后的MOSFET技术节点，7nm工艺定义为10nm节点之后的MOSFET技术节点。工艺节点是指可以加工的最小宽度的线的宽度。