半导体材料/去光阻剂/去胶液/正胶去胶液/负胶去胶液/剥离液

该产品适用于集成电路（IC）、LED、先进封装（WLP）等领域，能够快速、彻底地去除光刻工艺后残留的正性/负性光刻胶，为后续蚀刻、沉积等工艺步骤提供洁净表面 。

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