真空镀膜材料 光学镀膜材料 一氧化硅 纯度4N

光学镀膜材料 一氧化硅（SiO）产品介绍

一、产品基本信息

名称：光学级一氧化硅

化学式：SiO

外观：浅棕色～棕褐色致密颗粒、块状

纯度：99.9% / 99.99%

形态：1–3mm、2–5mm 烧结颗粒、块状

CAS：

二、光学核心性能

折射率：约 1.85–2.0 @550nm，中折射率材料

透光波段：400nm～8μm，可见光至中远红外透过良好

膜层透明，吸收低、散射小

膜层致密均匀，附着力优异

应力适中，成膜稳定

真空蒸发顺畅，出气少，镀膜一致性好

三、主要用途（光学镀膜核心材料）

红外增透膜、红外减反膜

红外窗口、红外透镜、热成像光学元件

多层光学膜系、干涉滤光片

激光器件、光通讯器件镀膜

保护膜、阻隔膜、防潮膜

眼镜镜片、光学镜头镀膜

四、工艺适配

适用：真空热蒸发、电子束蒸发（E-beam）、离子辅助镀膜（IAD）

常用搭配材料：SiO₂、Ge、ZnS、PbF₂、Nb₂O₅

工艺成熟，尤其适合红外光学镀膜批量生产

五、产品优势

高纯度致密颗粒，蒸发稳定、无飞溅

红外波段透过优异，是红外光学常用材料

膜层牢固，耐候性、耐湿热性好

成膜应力温和，不易开裂脱落