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- 2026-06-27 10:05:24
利用磁场的能量来激发和维持等离子体。将一组线圈（通常是平面线圈或螺旋线圈）绕在或置于反应腔室周围（或顶部），并施加高频交流电。交变电流在线圈中产生一个强大的交变磁场，这个变化的磁场根据法拉第电磁感应定律，在反应腔内感应出强大的涡旋电场。感应出的涡旋电场使电子加速，最终激发气体产生等离子体。
高密度的活性自由基使其在化学清洗方面效率极高。可清洗三维立体工件和异形工件。非常适合处理对离子轰击敏感的材料和器件，如半导体芯片、微电子机械系统（MEMS）、gao*ji*封装等。
主要特点
小型化，方便实验室操作和使用，大幅降低实验成本。
处理温和均匀，适合精细、敏感器件。
无电极污染，洁净度高。
技术参数
| 离子源功率 | 0~200W功率可调 |
| 离子源频率 | 13.56MHz |
| 控制形式 | 半自动/全自动 |
| 清洗时间 | 1s~9999s 可调 |
| 真空度 | ＜80Pa |
| 真空泵 | 抽气速率：4L/S（油雾过滤） |
| 内腔（圆形） | 尺寸：φ160mm × 210mm 材质：石英玻璃 |
| 载物托盘 | 玻璃托盘，平行放置 |
| 工艺气体 | 2路（N2、Ar、O2、H2选配） |
| 控制系统 | PLC+触摸屏 |
设备工作条件
| 供电 | AC 220V（±10V）50/60Hz |
| 功率 | 1.5KW |
| 工作环境温度 | 10℃～40℃ |
| 工作环境湿度 | ≤50% |