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- 2026-06-27 10:05:24
利用电场的能量来激发和维持等离子体。在平行电极板上施加高频的交流电压。强大的交变电场使反应气体中的自由电子加速，这些高能电子与气体分子发生碰撞，使其电离、分解，从而形成等离子体。
离子定向性强，能量高，对于去除顽固的污染物（如油脂、指纹）和进行表面蚀刻、粗化效果非常好。适用于平面基片的清洗。
主要特点
小型化，方便实验室操作和使用，大幅降低实验成本。
物理溅射能力强。适合处理顽固污染物。
技术参数
| 产品型号 | HITSemi-P*l*a*sma-C1 |
| 等离子源功率 | 300W（60%~百分之一百连续可调） |
| 等离子源频率 | 40KHz/13.56MHz |
| 控制形式 | 半自动/全自动 |
| 清洗时间 | 1s ~9999s 可调 |
| 真空度 | ＜80Pa |
| 真空泵 | 抽气速率：2L/S（油雾过滤） |
| 内腔（圆形） | 尺寸：φ150mm × 280mm 材质：316不锈钢 |
| 有效处理空间 | 130mm × 245mm |
| 处理温度 | ＜60° |
| 极板布局 | 平行电极板：功率极板（1）+不锈钢托盘（1） |
| 工艺气体 | 2路（N2、Ar、O2、H2选配） |
| 控制系统 | PLC+触摸屏 |
设备工作条件
| 供电 | AC 220V（±10V）50/60Hz |
| 功率 | 1.5KW |
| 工作环境温度 | 10℃～40℃ |
| 工作环境湿度 | ≤50% |