触摸屏半自动双盘磨抛机

一、产品概述

在金相试样制备过程中，磨光与抛光是决定微观组织观察效果的关键工序。为适应现代工业与科技发展需求，本系列触摸屏半自动金相试样磨抛机（型号：BN-MPZ2B1M（单控） / BN-MPZ2B2M（双控））应运而生。

该系列设备摒弃了传统分体式预磨机与抛光机的作业模式，采用双盘设计，配合半自动磨抛头，可夹持磨抛3个试样，显著提高了工作效率，节省了人工成本。设备外形经典美观，操作界面升级为智能触摸屏，支持多档定速快速切换及无级调速，并具备正反转功能。其紧凑的机身设计特别优化了空间布局，方便用户在进行机器自动磨抛的利用空闲盘面进行手工磨抛，实现了“机磨+手磨”的高效协同作业。

二、系列共同特点与优势1. 智能触控与精准调速

触摸屏操作：取代传统机械按键，人机交互界面友好，参数设定直观便捷。

宽量程调速：采用高性能矢量变频器，转速范围覆盖 50-1500 r/min，满足从粗磨到精抛的全流程速度需求。

多档定速模式：内置多组预设转速（6档/12档组合），支持一键快速切换，保留无级调速功能以适应特殊工艺。

智能定时：具备磨抛定时设定功能，确保制样一致性。

2. 高效半自动夹持系统

多试样处理：磨头可夹持 3个 试样，稳定高效。

高转速磨头：磨头转速提升至 60 r/min（相比老款30 r/min），大幅提升了抛光的均匀性与效率。

灵活布局：优化的机身结构允许用户在机器自动运行的在另一盘面进行手工操作，最大化设备利用率。

3. 卓越的品质与耐用性

精工外壳：外壳采用加厚钣金/注塑工艺，表面经汽车级喷塑处理，光亮抗污，易清洁，经久耐用。

核心部件：电机采用全铜线圈，转动平稳、噪音低、寿命长；水龙头采用全铜材质，手感好且不生锈。

集污系统：集污盘采用加厚ABS注塑工艺整体制成，耐腐蚀，易于清理废液。

大直径磨盘：研磨/抛光盘直径均为 230mm，盘径大、跳动度小，制样效果好。

4. 扩展功能

正反转控制：可根据用户习惯或特定工艺需求调整旋转方向。

可选配电磁控水：支持加装电磁控水装置，实现加水自动化，进一步减少人工干预。