BN-MPZ2B1/MPZ2B2半自动双盘研磨抛光机

一、概述

在金相试样制备过程中，磨光与抛光是决定最终观察效果的关键工序。本系列设备旨在替代传统的分体式预磨机和抛光机，通过双盘设计实现高效、节时的制样流程。该系列包含两款核心型号：BN-MPZ2B1（单变频/同步调速）与BN-MPZ2B2（双变频/独立调速），均具备半自动夹持功能，可处理多个试样，是现代化金相实验室的理想选择。

二、共同优势与特点

两款机型在基础结构、材质工艺及核心功能上保持高度一致，具体表现为：

高效双盘设计：

配备研磨盘与抛光盘（直径均为230mm），双盘工作。

盘径大于国内同类常规产品，跳动度小，制样效率高且表面效果好。

半自动多试样夹持：

配合半自动磨抛头，可夹持磨抛 1-3个 试样。

磨头转速固定为 30r/min，确保试样受力均匀。

标配支持22mm和30mm试样，可选配45mm试样。

卓越的耐用性与工艺：

外壳：采用加厚钣金，表面经汽车级喷塑工艺处理，光亮抗污，易打理。

集污盘：采用加厚ABS塑料整体制成，耐腐蚀，易清洁。

核心部件：电机采用全铜线圈（转动平稳、低噪、长寿命）；水笼头采用全铜材质（手感好、不生锈）。

智能控制系统：

调速范围：50-1000 r/min 无级可调，适应粗磨、细磨、干磨、湿磨及抛光全流程。

操作模式：具备高、中、低三档快速切换及定时设定功能。

方向控制：支持正反转调整，适应不同使用习惯。

基础参数一致项：

机器功率：1300W

电压频率：220V 50HZ

外形尺寸：670 × 740 × 490 mm

三、核心差异对比（选型关键）

两款机型的主要区别在于驱动控制方式及由此带来的重量差异，这直接影响了设备的灵活性和适用场景。

对比项目BN-MPZ2B1 (单变型)BN-MPZ2B2 (双变型)差异解读

产品型号	BN-MPZ2B1	BN-MPZ2B2	B2为升级款
驱动方式	单矢量变频器	双矢量变频器 / 独立控制	核心区别
调速逻辑	双盘同步变速	双盘独立变速	B2型可让研磨盘和抛光盘以不同速度运行，无需停机切换或妥协速度，工艺灵活性更高。
净重	65 KG	69 KG	B2型因增加控制模块略重4KG。
适用场景	标准制样流程，两盘速度需求基本一致的场景。	复杂制样流程，需对不同硬度材料进行差异化速度磨抛，或对效率有要求的场景。