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- 2026-07-20 16:47:44
氩气电离阈值低,在电场作用下易形成稳定等离子体,且无氧化、碳化副产物,适配各类真空精密加工。电子级氩气全程无油化生产,无粉尘与挥发性杂质,不会造成晶圆针孔、膜层缺陷。在溅射工艺中轰击金属靶材完成镀膜;单晶炉内填充形成保护氛围,避免硅熔液氧化;真空腔体吹扫置换空气,降低腔体本底杂质,覆盖集成电路、显示面板、太阳能电池、光学镀膜全产业链精密制程。
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