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- 2026-09-04 12:10:21
在半导体化学机械抛光(CMP)后的清洗工序中,如何在去除污染物的保护铜互连不被腐蚀,是工艺工程师面临的难题。电子级黄嘌呤(Xanthine,CAS 69-89-6)作为一种嘌呤类化合物,正在作为金属腐蚀抑制剂进入这一应用场景-。
黄嘌呤的分子结构使其能够在不损伤半导体衬底及各类薄膜的前提下,对铜等金属展现出腐蚀抑制效果-。在CMP后清洗液中添加黄嘌呤类抑制剂,可以在有效去除研磨颗粒和金属离子的保护铜导线免受清洗液的化学侵蚀-。
山东安达化工科技推出的电子级黄嘌呤,纯度≥99.5%,金属离子总量控制在100ppb以下-。产品为半导体用电子化学品,满足电子工业对高纯有机物的严格要求-。超低的金属含量确保了黄嘌呤本身不会成为新的污染源——这在敏感的半导体制程中尤为关键-。
作为电子级化学品中的一个细分品类,黄嘌呤的应用正在从实验室研究向产业化应用扩展-。山东安达以高纯原料和精制工艺,为半导体制造企业提供品质可控的电子级黄嘌呤产品,助力CMP后清洗工艺的优化与完善。