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- 山东安达化工科技有限公司
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- 2026-09-04 12:10:32
在半导体晶圆清洗工艺中,如何在去除金属污染物的不损伤器件结构,一直是工艺工程师面临的挑战。电子级30%柠檬酸溶液提供了一种兼顾清洗效率与材料兼容性的解决方案-。
柠檬酸作为一种天然有机酸,具备优异的金属离子络合能力-。山东安达化工科技生产的电子级30%柠檬酸溶液,Al³⁺、Cu²⁺、Mn²⁺等关键金属离子含量均控制在5-10ppb以下,符合电子工业对超高纯试剂的要求-。这一纯度水平使得该产品能够用于晶圆涂胶前的湿法清洗工序,有效去除硅片表面的金属沾污-。
晶圆表面的各种沾污可导致集成电路产率下降约50%-。电子级柠檬酸溶液通过络合反应将金属离子从硅片表面“捕获”并带入清洗液中,实现洁净表面的避免强酸对器件结构的侵蚀-。30%的浓度配比经过优化,既保证了足够的络合活性,又便于在清洗线上进行比例稀释与工艺调整-。
山东安达采用提纯结晶工艺,从工业级原料出发,经溶解、过滤、重结晶等多道工序,将杂质逐步剥离-。产品以高纯水配制,包装过程在洁净环境中完成,避免二次污染-。从晶圆清洗到APD器件台面刻蚀,电子级30%柠檬酸溶液正在成为半导体湿法制程中的基础试剂-。