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- 2026-09-17 12:05:10
金属离子<0.5μg/g:电子级柠檬酸如何在硅片清洗中做到“络合而不腐蚀”
电子级柠檬酸是一种金属离子和无机阴离子含量很低的高纯度柠檬酸,主要用于集成电路及电子元件加工领域中硅片清洗、基片湿法清洗、湿法蚀刻及去胶等环节-。其金属离子含量要求控制在0.5μg/g以下,重金属<0.1μg/g,Cl⁻和SO₄²⁻均控制在1μg/g以下,柠檬酸含量≥99.5%-。
山东安达化工科技有限公司的电子级柠檬酸(一水)产品,面向超大规模集成电路和大屏幕液晶显示器等微电子工业的化学刻蚀和化学清洗应用。柠檬酸含有羟基,在电离后对金属离子有较强的络合作用,是Co基Cu互连CMP及后清洗中的主要络合剂-。
在硅片清洗中,电子级柠檬酸用于基片在涂胶前的湿法清洗。硅圆片在工艺加工过程中常被不同杂质沾污,各种沾污可导致IC产率下降约50%,柠檬酸清洗液能够帮助去除这些杂质-。在CMP后清洗中,柠檬酸对Cu/Co去除速率选择比、Co的表面形貌及Co表面残留去除均有影响-。
山东安达在电子级柠檬酸的生产中采用离子交换、浓缩、精密过滤、结晶等组合工艺,对金属离子和无机阴离子进行深度脱除,产品指标满足微电子工业对高纯度有机酸的要求。