预加热滑动PECVD系统_1200℃_双温区/多温区

PECVD系统是一种 Plasma 增强 CVD系统(PECVD)，在传统 CVD系统的前端加入RF 射频感应装置将反应气体电离，形成等离子体，利用等离子体的活性来促进反应，降低气相沉积反应温度，沉积速度快，成膜质量好。包含加热系统、控温系统、射频电源、滑动装置、质量气体流量控制、真空控制系统、预加热系统等模块，根据工艺要求多模块自由组合，并可扩展升级配置，节约成本。适用于Plasma增强化学气相沉积工艺。

PECVD系统-产品用途:  

PECVD系统可以用于二维材料制备、石墨烯生长、TMDs材料制备、二硫化钼、薄膜材料制备、氧化物薄膜、碳化物薄膜、氮化物薄膜、金刚石薄膜、金属涂层、碳纳米管生长、Zn0纳米结构生长、新晶体材料、陶瓷纤维、陶瓷电容气氛烧结、非晶态合金、粉体材料气氛烧结、等离子表面改性等离子聚合、等离子清洗等

预加热PECVD系统配置:  
1.1200度开启式双温区真空管式炉
2.手动、电动滑动系统
3.预加热开启式管式电炉
4.等离子射频电源
5.多路质量流量控制系统
6.真空控制系统(可选配中真空或高真空)

产品特点：

生长温度低；沉积速率快；成膜质量好，适用范围广，设备简单。

产品参数：