金属蚀刻网的原理： 金属蚀刻也称光化学金属蚀刻（photo chemical etching），指通过曝光显影工序、将产品的图形转移到金属钢片上，将要金属蚀刻区域的保护，不要的区域除去保护膜裸露出金属部分，再用化学药水溶液起到腐蚀的作用，形成凹凸半刻或者镂空成型的效果。华润经过不断改良和工艺设备发展，目前用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密金属蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，金属蚀刻更是不可或缺的技术。
金属蚀刻网的工艺流程：
开料→清洗板材→干膜或涂布→烘干→曝光→ 显影→烘干→蚀刻→脱膜→检测包装
金属蚀刻网加工的范围
金属蚀刻的材料厚度；0.03-2.0mm,最佳的蚀刻厚度：0.05-0.5mm.
金属蚀刻能达到的精度：当材料厚度为T=0.05时，可开最小的孔为：∮=0.1mm；
蚀刻孔的直径∮与材料厚度T的关系：∮=1.2*T
薄的材料蚀刻的精度高，厚的材料蚀刻的精度低。
金属蚀刻网的材料要求：不锈钢材料中有很多牌号SUS301 SUS304 SUS316 SUS201等等，其中SUS304材质性能最适合蚀刻工艺！
金属蚀刻网用途：用于集成电路印刷，荧光屏电子格栅，精确过滤，微电极元件，电子行业的平面引脚、引线框架、基片等。还可制造标牌、商标及精美工艺品。
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