光清洗技术是利用有机化合物的光敏氧化作用，达到去除黏附在材料表面上的有机物质，经过光清洗后的材料表面可以达到原子清洁度。
适用范围：1、LCD, PDP, OLED, 半导体硅芯片，集成电路、高精度印制电路板清洗和表面改质。2、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料。3、有机玻璃，PP, PE菲林。详情请点击瑞森特公司网站：www.uv58.com
★工作原理是利用紫外光子对有机物质所起的光敏氧化作用以达到清洗粘附在物体表面上的有机化合物（碳氢化合物）的目的。
★在实际应用中，通常是利用一种能产生两种波长的紫外灯，这种UV灯能够产生波长为254nm、185nm的紫外光（通常185nm 波长的仅为254nm波长光的20%）。
★根据臭氧（03）产生程度分S型，H型，L型。根据形态分为D型-直管，U型，N型，M型等。
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