产 品 说 明
四氟化碳 R14
"用途：
四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，其高纯气及四氟甲烷高纯气配高纯氧气的混合气，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、泄漏检验剂、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。"
物理性质
分子式 CF4
分子量 88
沸点 -128.1℃
临界温度 -45.67℃
临界压力 3.74Mpa
破坏臭氧潜能值 /ODP 0
全球变暖系数值 /GWP 1700
质量指标
外观 无色，不浑浊
气味 无异臭
纯度 ≧99.90%
水份 ≤5ppm
氮气，%（v/v） ≤0.03
氧气，%（v/v） ≤0.01
二氧化碳 ≤10ppm
氟化碳 ≤20ppm
酸度 ≤0.1ppm
包装规格
可重复充装钢瓶10L、40L