旋转铬靶 平面铬靶 喷涂铬靶 高纯铬靶材 镀膜铬靶

旋转铬靶 Rotatable Cr target

应用：用于制作Cr及CrNO膜，主要用于五金装饰的耐磨、耐腐蚀硬膜,LOW-E玻璃,,半导体电子行业

产品化学成分和物理性能：

化学式：Cr

成型工艺：喷涂

密度:  >6.8g/cm3（>95%）

纯度:  > 99.5%

最大杂质含量 （单位:  ppm， 总杂质含量≤ 5000ppm)

最大加工尺寸

长度L 4000MM    厚度T 6-10MM

直型、狗骨型

按客户要求定做