旋转铬靶平面铬靶喷涂铬靶高纯铬靶材镀膜铬靶

产品详情

旋转铬靶 Rotatable Cr target

应用：用于制作Cr及CrNO膜，主要用于五金装饰的耐磨、耐腐蚀硬膜,LOW-E玻璃,,半导体电子行业

产品化学成分和物理性能：

化学式：Cr

成型工艺：喷涂

密度: >6.8g/cm3（>95%）

纯度: > 99.5%

最大杂质含量（单位: ppm，总杂质含量≤ 5000ppm)

最大加工尺寸

长度L 4000MM 厚度T 6-10MM

直型、狗骨型

按客户要求定做

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