杭州凯亚达半导体材料优质高纯4N99.99%三碘化锑

1，技术对接：非湿法工艺，不含任何结晶水. CVD工艺：锑与碘化氢气体化学气相沉积：2Sb+ 6HI = 2SbI3 + 3H2;

2，检验： ICP-MS （99.99%纯度：所有的杂质元素低于100ppm）;

          XRD：（主峰完全对称）；

          SEM :  ( 扫描电镜）;

3，服务：提供MSDS及实用的防护措施（当客户不小心吸入时，我们会在第一时间内提供您最行之有效的解决方案）本品具有腐蚀性和毒性：对眼睛、粘膜、皮肤和上呼吸道有强烈刺激作用 ）；提供材料的应用解决方案；提供免费样品；

4，物理特性： 红色结晶体，高温时挥发，在水中分解生成碘化锑沉淀 ；分子量:502.16 蒸汽压: 0.13kPa(163.6℃), 熔 点: 170℃ 沸点：401℃ 溶解性:溶于醇、盐酸;

5，用途：半导体掺杂-Doping ;

6，同类产品介绍：碘化铅（PbI2）; 碘化银（AgI）; 碘化钠（NaI）;碘化亚铜（CuI2）;

7，纯度：99.99%；

8，包装：瓶装：1Kg/瓶，外加铝复合薄膜真空包装;

9，交期：5-10天.