铝靶材 U_睿新材料 长沙铝靶材厂家

靶材在微电子领域中的应用

在所有应用产业中，半导体产业对靶材溅射薄膜的品质要求是最苛刻的。如今12英寸（300衄口）的硅晶片已制造出来．而互连线的宽度却在减小。硅片制造商对靶材的要求是大尺寸、高纯度、低偏析和细晶粒，这就要求所制造的靶材具有更好的微观结构。靶材的结晶粒子直径和均匀性已被认为是影响薄膜沉积率的关键因素

高纯金属溅射靶材已广泛应用于各种行业，铝靶材，包括半导体、太阳能电池、电子、光学、LED、平面显示、航空航天、、装饰等工业用途及科研应用。为满足多领域多样化需求，长沙铝靶材哪家好，U_睿新材料可根据客户要求定制各种金属靶材，多种形态（平面靶、多弧靶、旋转靶及其它异形靶材），长沙铝靶材销售，纯度，长沙铝靶材厂家，包装从克至吨级的高纯金属单质 ，欢迎咨询.铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种

合金靶材

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