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- 苏州微麦光电有限公司
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- 发布时间
- 2019-03-22 13:36:41
在刻画时,采用步进机刻画(stepper),其中有电子束和激光之分,激光束直接在涂有铬层的4-9“ 玻璃板上刻画,边缘起点5mm,与电子束相比,其弧形更逼真,线宽与间距更小。光掩膜有掩膜原版(reticle mask,也有称为中间掩膜,reticle作为单位译为光栅),用步进机重复将比例缩小到master maks上,应用到实际曝光中的为工作掩膜(working mask),工作掩膜由master mask复i制过来。
公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,玻璃板,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
在接触式光学微影技术中,光罩表面的遮光图案会与基板上的光阻层接触摩擦,容易使得遮光图案耗损使得光罩使用寿命缩短。另外,当涂布有光阻层的基板表面不是非常平整时,光罩与光阻层会产生不确定的空隙与距离,而造成光线的散射与绕射,进而造成曝光的尺寸误差,并且造成光阻层浅层部分的侧向曝光范围扩大,因而无法制作出高深宽比的光阻结构。
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光掩膜除了应用于芯片制造外,还广泛的应用与像LCD,PCB等方面。常见的光掩膜的种类有四种,铬版(chrome)、干版,凸版、液体凸版。主要分两个组成部分,基板和不透光材料。基板通常是高纯度,低反射率,低热膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透光层是通过溅射的方法镀在玻璃下方厚约0.1um的铬层。铬的硬度比玻璃略小,虽不易受损但有可能被玻璃所伤害。应用于芯片制造的光掩膜为高敏感度的铬版。