W1靶材 高纯度钨靶 钨溅射靶材 钨靶厂家

    钨靶材主要应用于航天、稀土冶炼、电光源、化工设备、医疗器械、冶金机械、熔炼设备、石油、等领域。

   中文名：钨靶材          
   原子序数：74
   元素符号：W  
   密      度 ：  19.3/立方厘米  
   熔      点 ：  3410℃
   沸      点 ： 5927℃
   纯      度：99.95%以上
   表      面：碱洗或磨光
    特点：  喷涂、烧结后的钨靶,具有99%的密度甚至更高、平均透明纹理的直径为100um甚至更小、含氧20ppm或更少，偏转角力为500Mpa左右的特性；提高未加工金属粉末的生产，提高烧结的能力，可以使钨靶的成本稳定在一个低价位。烧结后的钨靶密度高，具有传统的压制烧结方法所无法达到的高水准的透明框架，并且明显改善了偏转角力，以致颗粒物显著的减少。