整体反射率，颜色和薄膜膜厚测量仪 OP-859
OP-859
电池片表面制绒效果，对提高电池片效率，起着非常重要的作用。电池片的制绒减少了因为反射而丢失的光，并且对电池片的钝化效果也有很大的影响。另外就制绒工艺本身来讲，硅片材料和硅片切割效果对其也有影响。因此，很有必要获得制绒效果的详细信息，从制绒后硅片整体反射率光谱的精确测量可以获得这些信息。
OP-tection的OP-859是一个很好的化学制绒工艺测量，分析和工艺优化的工具，同时也可以测量镀膜后硅片的膜厚和颜色。
测量整体反射率是已经被接受的用来稳定制绒工艺的一个主要手段。制绒效果直接影响硅片平均反射率和反射率变化，因此硅片的平均反射率和反射率变化都很重要且需要管控。整体反射率测试包括：
单晶绒面硅片，单晶抛光面硅片测量。
单晶绒面硅片，多晶绒面硅片测量。
1.测量原理：
反射光被特别设计的积分器收集，所有的反射光和散射光都会被收集，通过光纤送到分光光度计，再通过积分球另外的一个接口送到分光光度计。不管样品表面是绒面还是抛光的，所有的反射光和散射光都会被测量到。整体反射率用来测量制绒后和镀膜后硅片的反射率。通过标准逻辑运算计算出您想要的颜色值Lab,xyY等。
薄膜的上表面和下表面反射的发生干涉，这个干涉是薄膜厚度的一种属性。这种现象用来计算硅片薄膜膜厚。最好的计算方法是通过拟合测量光谱和薄膜理论光谱，使其重合，计算出薄膜实际厚度。
积分球截面图
2.OP-859应用的位置：
晶硅片 镀膜片 印刷后 模组
3.OP-859的功能：
OP-859是一款方便实用的绒面抛光面硅片反射率测试仪器。另外OP-859也可以测量镀膜硅片的颜色和膜厚，OP-859能做如下测量：
单点测量 √
积分球式整体反射率测量√
最低反射率的波长测量√
自定义波长√
镀膜膜层厚度测量√
用户自定义门限设置 √
Good / Bad 指示√
固定校正片 √
平均反射率 √
颜色计算 √
手动测试台 √
硅片 mapping √
OP-859系统使用简单，无需操作人员有专业的技能。因为系统配置了移动平台，所以执行测量速度很快。用户可以在移动的硅片上进行连续性测量，也可以测量硅片上的固定点。可自动生成测试报告及数据存储。
OP-859软件界面
单晶硅反射率光谱，最小反射率波长
4.系统测量规格：
测量参数 反射率光谱 / 膜厚 / 颜色
反射率范围 0 ~ 100 %
波长范围 380 ~ 1050 nm
膜厚(SiN) 25 ~ 120 nm