氧化锆陶瓷的性能依赖于高质量的氧化锆粉体。那么氧化锆陶瓷粉体制备方法的优缺点有哪些呢？下面就来为大家进行分析。今天我们就来讲一下氧化锆陶瓷粉体的几大制备方法及其优缺点。1、共沉淀法
优势：设备工艺简单，生产成本低廉，且易于获得纯度较高的纳米级超细粉体，目前国内大部分氧化锆生产企业采用的都是这种方法。
缺点：没有解决超细粉体的硬团聚问题，粉体的分散性差，烧结活性低。
2、水解沉淀法
水解沉淀法分为锆盐水解沉淀和锆醇盐水解沉淀两种方法。
锆盐水解沉淀工艺
优点：操作简便。
缺点：反应时间较长(>48小时)，耗能较大，所得粉体也存在团聚现象。
锆醇盐水解沉淀工艺
优点：几乎全为一次粒子,团聚很少；粒子的大小和形状均一； 化学纯度和相结构的单一性好。
缺点：原料制备工艺较为复杂，成本较高。
3、水热法
优点：粉料粒度极细，可达到纳米级，粒度分布窄，省去了高温煅烧工序，颗粒团聚程度小。
缺点：设备复杂昂贵，反应条件较苛刻，难于实现大规模工业化生产。
4、溶胶-凝胶法
溶胶-凝胶法是被广泛采用的制备超细粉体的方法。它是借助于胶体分散体系的制粉方法，形成几十纳米以下的 Zr(OH)4 胶体颗粒的稳定溶胶，再经适当处理形成包含大量水分的凝胶，后经干燥脱水、煅烧制得氧化锆超细粉。
优点：(1)粒度细微,亚微米级或更细；(2) 粒度分布窄；(3)纯度高,化学组成均匀,可达分子或原子尺度；(4)烧成温度比传统方法低400～500℃。
缺点：(1)原料成本高且对环境有污染；(2)处理过程的时间较长；(3)形成胶粒及凝胶过滤、洗涤过程不易控制。
氧化锆陶瓷件是一种用途广泛的陶瓷，因为其优越的性能，在现代社会的应用已经越来越广泛，满足于日用和特殊性能的需要。氧化锆陶瓷件一般可采用<1μm微米的Al203微粉或金刚钻膏进行研磨抛光。此外激光加工及超声波加工研磨及抛光的方法亦可采用。
氧化锆陶瓷件是一种以氧化铝为主体的陶瓷材料，用于厚膜集成电路。氧化锆陶瓷件有较好的传导性、机械强度和耐高温性。需要注意的是需用超声波进行洗涤。
有些氧化锆陶瓷件材料在完成烧结后，尚需进行精加工。如可用作人工骨的制品要求表面有很高的光洁度、如镜面一样，以增加润滑性。
由于氧化锆陶瓷件材料硬度较高，需用更硬的研磨抛光砖材料对其作精加工。通常采用由粗到细磨料逐级磨削，最终表面抛光。
氧化锆陶瓷件领先于其他企业的优势：
1、高硬度，高韧性，高抗弯强度，氧化锆陶瓷件密度5.95-6.05 g/cm3之间，在四种常用于制作陶瓷球体材料（Si3N4，SiC，Al2O3，ZrO2）中，氧化锆陶瓷件的韧性最高，8MPa·m1/2以上。
2、氧化锆陶瓷件高耐磨性，摩擦系数低，耐磨性是氧化铝陶瓷的15倍，磨擦系数仅为氧化铝陶瓷的1/2 ，经研磨加工后，氧化锆陶瓷件表面光洁度更高，可达▽9以上，呈镜面状，极光滑，摩擦系数更小。
3、氧化锆陶瓷件绝缘性好，耐腐蚀性强，无静电，耐高温，隔热性能优异，热膨胀系数接近于钢。
4、氧化锆陶瓷件具有自润滑性，氧化锆陶瓷件可以解决润滑介质造成的污染和添加不便。